마그네트론 스퍼터링 진공 코팅 장비의 코팅 장점 소개- Ningbo Honyu Vacuum Technology Co., Ltd.

진공 코팅 장비 코팅 기술은 증발 코팅 기술, 이온 코팅 기술, 마그네트론 스퍼터링 코팅 장비의 세 가지 일반적인 방향으로 나뉘며 각 코팅 기술에는 고유 한 장단점이 있으며 코팅이 다른 기판, 다른 대상, 선택한 코팅 기술이 다릅니다. 마그네트론 스퍼터링 코팅의 기술 장비는 종종 시장에서 마그네트론 스퍼터링 코팅 장비라고하며 이온 코팅 기술 장비는 이온 진공 코팅 장비라고합니다. 마찬가지로 증발 코팅 기술 장비는 증발 진공 코팅 장비라고도합니다. 도움이 되기를 바랍니다.

진공 코팅 장비

마그네트론 스퍼터링 공정의 주요 장점은 반응성 또는 비반응성 코팅 공정을 사용하여 층 조성, 필름 두께, 필름 두께 균일성 및 필름 기계적 특성 등을 잘 제어하면서 이러한 물질의 층을 증착할 수 있다는 것입니다. 따라서, 시장의 코팅층은 필름층에 대한 요구 사항이 비교적 높으며 거의 모두 마그네트론 스퍼터링 코팅 기술로 실현됩니다. 마그네트론 스퍼터링 코팅 기술은 다음과 같은 장점이 있습니다.

1. 증착율이 높다. 고속 마그네트론 전극의 사용으로 인해 사용 가능한 이온 전류가 매우 커서 이 공정의 코팅 공정의 증착 속도와 스퍼터링 속도를 효과적으로 향상시킵니다. 마그네트론 스퍼터링은 다른 스퍼터링 코팅 공정에 비해 생산성이 높고 생산량이 많아 다양한 산업 생산에 널리 사용됩니다.

2. 높은 전력 효율. 마그네트론 스퍼터링 타겟은 일반적으로 200V-1000V 범위의 전압, 일반적으로 600V를 선택합니다. 600V의 전압이 전력 효율의 가장 효과적인 범위 내에 있기 때문입니다.

3. 낮은 스퍼터링 에너지. 마그네트론 목표 전압 인가가 낮고 자기장이 음극 근처에 플라즈마를 가두어 더 높은 에너지의 하전 입자가 기판에 입사하는 것을 방지합니다.

4. 기판 온도가 낮습니다. 양극은 기판 지지대를 접지할 필요 없이 방전 중에 생성된 전자를 전도하는 데 사용할 수 있으므로 전자에 의한 기판의 충격을 효과적으로 줄일 수 있으므로 기판의 온도가 낮아 일부에 매우 적합합니다. 고온에 견디지 못하는 플라스틱 기판.

5. 마그네트론 스퍼터링 타겟의 표면이 고르지 않게 에칭됩니다. 마그네트론 스퍼터링 타겟 표면의 불균일한 에칭은 타겟의 불균일한 자기장에 의해 발생합니다. 타겟의 국소 에칭율은 상대적으로 커서 타겟 재료의 유효 활용률은 낮습니다(20%-30% 활용률만). 따라서 타겟 물질의 활용률을 높이려면 특정 수단으로 자기장 분포를 변경하거나 자석을 사용하여 음극에서 이동하는 것이 필요하며 타겟 물질의 활용률도 향상시킬 수 있습니다.

6. 복합 표적. 복합 타겟 합금 필름을 제조할 수 있습니다. 현재 복합 마그네트론 타겟 스퍼터링 공정은 Ta-Ti 합금, (Tb-Dy)-Fe 및 Gb-Co 합금 필름을 성공적으로 도금했습니다. 복합 타겟의 구조에는 원형 블록 모자이크 타겟, 정사각형 모자이크 타겟, 작은 정사각형 모자이크 타겟 및 부채꼴 모자이크 타겟의 4가지 종류가 있으며 그 중 부채꼴 모자이크 타겟 구조가 가장 잘 사용됩니다. 효과.

7. 광범위한 적용. 마그네트론 스퍼터링 공정에 의해 증착될 수 있는 많은 요소가 있으며 일반적인 요소는 Ag, Au, C, Co, Cu, Fe, Ge, Mo, Nb, Ni, Os, Cr, Pd, Pt, Re, Rh입니다. , Si, Ta, Ti, Zr, SiO, Al2O, GaAs, U, W, SnO 등

진공 코팅 장비 마그네트론 코팅 기술은 많은 고품질 박막 기술 중에서 가장 널리 사용되는 코팅 공정입니다. 도막 종류가 다양하고 도막두께 조절이 용이하고 도막 밀착력이 높고 조밀함이 좋고 표면 마감도 매우 미려하다.

도구 및 금형 진공 코팅기